等離子體uv光解廢氣除臭處理原理探討

 

uv光解除臭設備的適用范圍:

 

煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠和垃圾中轉站惡臭氣體和工業廢氣的凈化。

 

uv光解除臭設備的技術原理；

 

1.uv光解除臭設備利用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射廢氣，裂解工業廢氣如氨、三甲胺、硫化氫、甲基硫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯，使有機或無機高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解轉化為低分子化合物。

 

2.利用高能、高臭氧的UV光束分解空氣中的氧分子，產生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負電子不平衡，需要與氧分子結合，進而產生臭氧。

 

Uv+O2 → o-+o *(活性氧)O+O2→O3(臭氧)

 

眾所周知，臭氧對有機物有很強的氧化作用，對去除工業廢氣等刺激性氣味有立竿見影的效果。

 

3.工業廢氣由排氣設備輸入凈化設備后，凈化設備利用高能紫外光束和臭氧對工業廢氣進行協同分解和氧化反應，使工業廢氣物質降解轉化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排放到室外。

 

4.用高能紫外光束裂解工業廢氣中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，然后用臭氧進行氧化反應，完全達到凈化殺菌的目的。